Veeco與ALLOS展示200mm矽基氮化鎵,技術可望廣泛應用於Micro LED

 
威科儀器公司(Veeco Instrument Inc.)今天宣布與ALLOS半導體(ALLOS Semiconductors)完成一項戰略措施,以展示 200mm 矽基板用於氮化鎵(GaN)藍/綠光 Micro LED 的生產上。威科儀器與 ALLOS合作將其專有的磊晶技術轉移到單晶圓 Propel有機金屬化學氣象沉積(MOCVD)系統上,以便於現有的矽生產線上實現生產 Micro LED。
 
ALLOS 半導體公司執行長 Burkhard Slischka 表示,「使用 Propel 反應腔,我們就擁有一項 MOCVD 技術來實現高產能的氮化鎵磊晶,可滿足在 200mm 矽生產線上生產 Micro LED 元件的所有要求。不到一個月的時間,我們就已經在 Propel 上建立了我們的技術,並且獲得了無裂紋、無回熔(meltback-free)的晶圓,其曲度低於 30 微米,晶體品質高,優異的厚度均勻性與小於 1nm 的波長均勻性。和威科儀器合作,ALLOS 期待將這種技術更廣泛地應用於
Micro LED 的產業中。」
 
Micro LED 顯示技術由小於 30x30 平方微米的紅色、綠色和藍色(RGB)無機 LED 所組成,再轉化為顯示器背板以形成子像素。與 OLED 和 LCD 相比,這些高效率 LED 直接發射且耗電量更低,卻可以為移動顯示器,電視機和穿戴式裝置提供卓越的亮度和對比度。Micro LED 的製造需要高質量、均勻的磊晶片來滿足顯示器的產量和成本控制的目標。
 
「與競爭對手的 MOCVD 平台相比,由於威科儀器的 TurboDisc 技術提供了更廣泛的製程範圍,因此 Propel提供了一流的均勻性同時還能獲得優良的薄膜品質。」威科儀器高級副總裁兼 MOCVD 營運總經理 Peo Hansson 博士表示,「將威科儀器領先的 MOCVD 專業技術與 ALLOS矽基氮化鎵(GaN-On-Silicon)磊晶技術結合在一起,使我們的客戶能夠開發出低成本的 Micro LED,為新的市場中的開拓出新的應用。」
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